PVD、ALD过程中的精密气体流量控制

真空镀膜系统内净化气体和反应气体的输入需要快速、稳定、精确的控制。设计创新的ALICAT质量流量控制器不但在性能可靠性上优于传统MFC，并提供可竞争的销售价格。

真空镀膜应用中可靠产出的保障

?快速控制清洁气和反应气的流量，从而确保真空镀膜腔体内最佳的气体混合

?微小流量的精密控制 – 最小可控流量为0.025sccm!

?试验室和各种测试台的首选

?开放行业内领先的通讯协议，如：EtherNet/IP，DeviceNet等，方便各种工业应用

影响真空镀膜最终结果的设备和因素

?压力控制器、质量流量控制器

?快速、精密的气氛控制，以保障最佳镀膜效果

?简化的系统设计，从而节省真空镀膜设备的安装和维护成本

?气体可切换，以减少不必要的质量流量控制器库存

?适用于腐蚀性气体的不锈钢本体